Crystal IS成立于1997年,由Leo Schowalter和Glen Slack开发本土氮化铝(AlN)基板技术,用于更强大和可靠的半导体器件。晶体IS的科学家开发了在AlN衬底上生长活性晶体层(如led)的专利工艺,同时保持AlN的低缺陷密度。这些晶体(称为伪晶外延结构)具有锋利的界面,表面光滑,表面粗糙度小于一纳米。当使用国外衬底如蓝宝石时,这些厚的伪晶层和基于它们的器件是不可能的。
其结果是LED器件在250-280 nm波长范围内具有更高的效率和更长的寿命,比其他竞争技术制造的二极管(如蓝宝石上生长的晶体)要长。
在传统蓝宝石基材上制作深紫外线led,通常用于蓝色和绿色InGaN led,结果为108每平方厘米的错位(缺陷)。Crystal IS使用氮化铝(AlN)衬底制造小于10的深紫外led5每平方厘米的错位(缺陷)。这意味着在更短的波长下产生更高输出的led的高产率。
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